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加氫氮氣純化設(shè)備

工藝原理:加氫脫氧裝置以普氮為原料,經(jīng)加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥,再經(jīng)過濾除去氮氣中的雜質(zhì)、水氣和塵埃,獲得高純度氮氣。

除氧原理為:H2+O2→H2O

   


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工藝原理:

加氫脫氧裝置以普氮為原料,經(jīng)加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥,再經(jīng)過濾除去氮氣中的雜質(zhì)、水氣和塵埃,獲得高純度氮氣。

除氧原理為:H2+O2→H2O


加氫氮氣純化設(shè)備技術(shù)指標:

處理氣量:10-500Nm3/h

原料氮氣純度:≥99.5%
產(chǎn)品氮氣純度:99.9995% O2≤5ppm H2:微量
露點:≤-60℃
產(chǎn)品氮氣出口壓力:0.1~0.6Mpa


工藝流程圖:

31-3.png


加氫氮氣純化設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)表:

31-4.png


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